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专利名称：一种高性能纯银溅射靶材的激光增材制造方法
发明人：宁哲达 何奕沛 钟豪章 顾剑锋 巢云秀 许彦亭 闻明
专利号：CN202510964760.2
公告日：2025-11-14
摘要：本发明公开了一种高性能纯银溅射靶材的激光增材制造方法，包括：以球形气雾化银粉为原料；使用PBF‑LB/M系统，在惰性气氛保护下对球形气雾化银粉进行激光增材制造，工艺参数包括：激光功率为400W，扫描速度v为900～1000mm/s，扫描间距h为0.09～0.13mm，粉层厚度为30μm，同时满足h/v＝(0.9～1.3)×10‑4的工艺指标，得到纯银溅射靶材。本发明基于PBF‑LB/M工艺，通过参数优化与结构调控实现纯银溅射靶材的晶粒细化、致密度提升和表面性能改善目的，提高薄膜沉积过程中的成膜速率、均匀性和靶材使用寿命，可应用于OLED、电容器、光电膜等高端电子器件领域。
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