TiO_2纳米孔结构的XPS研究
作者:    发表时间: 2015-06-15   阅读次数: 912次

TiO_2纳米孔结构的XPS研究

 

顾剑锋;闻明;刘刚;吕坚

 

摘要:采用表面机械研磨处理技术(Surface mechanical attrition treatment,SMAT)在工业纯Ti的表面制备出一层厚度约30μm纳米结构表层,最表层的平均晶粒尺寸约30nm。随后在常温(25℃)下对其进行双氧水及400℃煅烧处理,并采用X射线光电子能谱(XPS)等手段进行了逐层结构分析。结果表明,SMAT Ti表面与粗晶Ti表层形成的氧化层结构存在明显差别。 . 

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